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實(shí)驗(yàn)動(dòng)物屏障設(shè)施污染臭氣應(yīng)采用局部一級(jí)處理后再總排風(fēng)管二級(jí)處理原則。

目前，排風(fēng)除氨氣、硫化氫主要采用的方法有：

局部化學(xué)法處理：

目前主要有針對(duì)氨氣、硫化氫氣體的化學(xué)過濾器；排風(fēng)系統(tǒng)支管應(yīng)設(shè)置消除污染的化學(xué)裝置，如化學(xué)過濾器等，并應(yīng)設(shè)置在風(fēng)機(jī)的負(fù)壓段。應(yīng)根據(jù)污染臭氣處理量預(yù)留設(shè)備空間，同時(shí)預(yù)留有關(guān)設(shè)備的閥門、電動(dòng)機(jī)、檢測(cè)孔等處的操作空間。污染臭氣處理系統(tǒng)的主體設(shè)備之間應(yīng)留有足夠的安裝和檢修空間，主體設(shè)備周邊應(yīng)應(yīng)急通道及規(guī)范的要求。

吸收法污染臭氣處理：

吸收工藝的選擇應(yīng)考慮的因素主要是污染臭氣性質(zhì)、流量、濃度、吸收劑性質(zhì)、吸收裝置特性以及經(jīng)濟(jì)性等。吸收裝置有噴淋塔、板式塔、湍球塔等。活性炭吸附可以在應(yīng)急工況下使用。

光解法處理：

光解工藝的選擇應(yīng)考慮的因素：污染氣體的流量、流速、壓力、組分、性質(zhì)、進(jìn)口濃度、排放濃度等。宜按最大污染臭氣排放量的120％進(jìn)行設(shè)計(jì)，并控制氣流速度。光解設(shè)備連續(xù)工作時(shí)間不應(yīng)少于12個(gè)月。氣體的接觸時(shí)間應(yīng)≧1.0s。

射流排氣法處理：

也稱排氣射流筒法。排氣筒的高度應(yīng)滿足國(guó)家現(xiàn)行有關(guān)大氣污染物排放標(biāo)準(zhǔn)的要求，最低高度不得低于15m，排氣筒高度指從地面至排氣口的垂直高度。排氣筒出口風(fēng)速宜為≧15.5m/s，對(duì)集中大型排氣筒宜預(yù)留排風(fēng)能力。排氣筒應(yīng)設(shè)置用于監(jiān)測(cè)的采樣孔和監(jiān)測(cè)平臺(tái)，以及必要的附屬設(shè)施。排氣射流筒頂端不應(yīng)設(shè)置傘帽。

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